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其中，SSX600 系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求，该设备可用于 8吋线或 12 吋线的大规模工业生产。 SSB500 系列步进投影光刻机不仅适用于晶圆级封装的重新布线（RDL）以及 Flip Chip 工艺中常用的金凸块、焊料凸块、铜柱等先进封装光刻工艺，还可以通过选配背面对准模块，满足 MEMS 和 2.5D/3D 封装的 TSV 光刻工艺需求。 在技术上，上海微电子的IC前道光刻机与国际先进水平差距仍较大。上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能最好的最高可实现 90nm 制程节点，ASML 的 EUV 3400B 制程节点可达到 5nm。这也使得在IC前道光刻机市场，国产化率较低，国内的IC前道光刻机市场主要被ASML、尼康和佳能瓜分。 不过，在对光刻精度要求较低的封装光刻机、 LED/MEMS/功率器件光刻机、面板光刻机市场，上海微电子则取得了不错的成绩。 目前上海微电子封装光刻机已实现批量供货，成为长电科技、日月光、通富微电等封测龙头的重要供应商，并出口海外市场，在国内市场占有率高达 80%，全球市场占有率达 40%。同时公司 300 系列光刻机可以满足 HB-LED、MEMS 和 Power Devices 等领域单双面光刻工艺需求，占有率达到 20%左右。 在面板光刻机市场，上海微电子也已经实现首台 4.5 代 TFT 投影光刻机进入用户生产线。不过，目前市场主流都是6 代及 6 代以上的产线。要想打破日本尼康和佳能所垄断的 FPD 光刻机市场格局，仍需要时间。 四、国产11nm光刻机将于年底下线？ 近日，网上有传闻称上海微电子预计在2020年12月下线首台采用ArF光源的可生产11nm芯片的SSA800/10W光刻机。 据网友爆料称，SSA800/10W光刻机采用NA 1.35透镜组，并搭载超精密磁悬浮双工件台和超纯水浸入系统。同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7nm。该光刻机采用深紫外光波长193nm，通过透镜成像，以及折射原理单次可达到28nm曝光效果，然后再利用双工作台进行多次曝光原理，有生产7nm制程的潜力。同时，该网友还贴出了上海微电子的双工件台曝光系统的操作控制界面。 根据消息显示，该光刻机的光源激光系统由科溢虹源（中科院微电子所、中科院光电所等组成）研发；㓎没式双工作台由华卓精科研发；㓎液系统则由浙江启尔机电研发，最高支持11nm制程；透镜及曝光系统则由国望光学（长春光机所、上海光机所等组成）研发，而上海微电子则负责控制系统和总装。 （注：关于华卓精科的双工台介绍可参看芯智讯此前文章《打破ASML光刻机双工台技术垄断！华卓精科拟登陆科创板》） 另外值得一提的是，目前中微半导体已成功推出用于5nm制程蚀刻机，而承担“ArF 光刻胶（波长为193nm的ArF激光光源）产品的开发和产业化”02 专项项目的南大光电也已研发出了ArF 光刻胶，此外在光刻工序涂胶显影设备上沈阳芯源微电子的涂胶/显影机、喷胶机、清洗机、去胶机、湿法刻蚀机等，也可用于 6 英寸及以下及 8/12 英寸单晶圆处理。可以说，在芯片制造相关的多个关键环节，国内已经实现了一定的突破。 不过，对于上海微电子11nm光刻机将于年底下线传闻，目前并未有相关的信息进行印证。芯智讯在上海微电子的官网上并未看到相关新闻，同时官网上展示的最先进的光刻机仍是上海微电子的600系列光刻机，只能支持90nm技术节点的光刻工艺。 此外，芯智讯也并未在网上找到相关证据，支持这个11nm光刻机将于年底下线的说法。同时，上海微电子的光刻机产品一下子从90nm直接跨越到11nm，这个技术跨度也确实有点大，真实性可能不大。 五、国产28nm光刻机明年交付，意义何在？ 而近期业内传出的上海微电子将于2021年交付28nm光刻机的消息则似乎更为靠谱。 芯智讯通过查询相关资料也发现，徐州经开区官网于今年4月16日发布的一则题为《徐州经开区科益虹源集成电路光刻制造及服务基地项目开工》的文章当中有提及，科益虹源目前正承担“02重大专项浸没光刻光源研发”、“02重大专项核心零部件国产化能力建设”、“02重大专项集成电路晶圆缺陷检测光源”等国家专项。 到2020年产品将与整机单位共同完成28nm国产光刻机的集成工作，对我国集成电路产业发展具有重大意义。 这里需要指出的是，北京科益虹源光电是中国唯一、世界第三家具备高端准分子激光技术研究和产品化的公司，同时也正是上海微电子的光刻机的光源系统的供应商。也就是说，通过上面的这则新闻，我们基本可以确认，今年科益虹源承担的“02重大专项”研发的浸没光刻光源就将与上海微电子共同完成28nm国产光刻机的集成。 所以，可以确认，2021年上海微电子就将完成28nm国产光刻机的交付。 虽然，这个28nm光刻机与ASML目前最先进的5nm EUV光刻机相比，仍有着很大的差距，但是对于中国的半导体产业以及上海微电子自身来说都是意义非凡，而且通过多次曝光，甚至可支持7nm芯片。 |
