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ASML 在技术更先进的 EUV、ArFi、ArF 机型市场占有率不断提升，且远大于 Canon 和 Nikon。2017 年 ASML 上述三种机型出货量总计为101 台，市场份额占比为 78.29%，到 2018 年 ASML 出货量增长到 120台，市场份额约 90% 。 数据显示，2018年，Canon 和 Nikon 在 EUV、ArFi、ArF 机型销售量远低于 ASML，二者产品主要集中价值量更低的后道光刻机以及面板光刻机领域。 IC 前道制造光刻机国产化严重不足。目前产线中光刻机主要依赖于进口，以国内产线长江存储为例，其光刻机全部来自于 ASML 和佳能。其中 Arf 光刻机全部由 ASML 供应，佳能主要供应技术难度相对较低的 g线、i 线光刻机及少部分 KrF 光刻机。 2、封装光刻机及LED/MEMS/功率器件光刻机市场发展迅速 除了应用于 IC 前道的光刻机之外，封装光刻机以及 LED/MEMS/功率器件光刻机利基市场也不断发展。 从需求量来看，先进封装光刻机市场需求更大且增速最高，是利基市场的主要拉动力量。根据 Yole,2015-2020 年先进封装、MEMS 以及 LED 光刻机出货量将持续增长，预计到 2020 年总需求量将超过 250 台/年。2015年到 2020 年先进封装光刻设备出货量年复合增长率达到 15%。MEMS光刻机需求量复合增速约 9%左右。 目前该市场中竞争者数目多于 IC 前道光刻机市场，光刻机三大巨头之一的尼康的光刻机业务也开始向利基市场进行转移。 3、面板光刻机市场：尼康、佳能垄断 光刻机还可以用于面板（FPD）领域，国内 FPD 产业处于高速发展阶段，市场发展空间巨大。随着国内 FPD 生产线的建设和陆续投产及下游电子设备应用多元化发展，我国 FPD 产业步入快速发展时期，产能持续增长。 据商务部数据显示，2013 年国内 FPD 产能仅为 22 百万平方米，而 2017 年国内产能迅速增长到 96 百万平方米，预计 2020 年我国 FPD产能将达到 194 百万平方米，2013-2020 年复合增长率达 36.48%，FPD市场保持高速增长，发展空间巨大。 国内 FPD 产能全球占比持续提升。在 FPD 产业逐渐向中国大陆转移和中国大陆以京东方为首的 FPD 厂商投资力度加大的双重作用下，国内FPD 产能全球占比持续提升。据商务部数据显示，2013 年国内 FPD 产能全球占比仅为 13.9%，2017 年国内 FPD 产能全球占比上升至 34%，中国跃升为全球第二大 FPD 供应区，预计 2020 年国内 FPD 产能全球占比将提高至 52%，届时中国将成为全球最大的 FPD 生产基地。 尼康、佳能 FPD 光刻技术优势明显，基本垄断了 FPD 光刻机市场，其中尼康份额最高。自 1986 年尼康在 FPD 制造领域推出 NSR-L7501G 以来，尼康开发并销售了大量的 FPD 光刻系统，尼康不仅是大型 FPDs 光刻系统的领导者，而且还为智能手机和面板电脑生产中小型高清 FPDs提供理想的型号。 而佳能 FPD 光刻技术也具有突出优势。由于弧形的成像范围使得获得最佳成像特性成为可能，佳能的设备可以扫描弧形的曝光区域，从而在大面积范围内获得高分辨率的性能； 通过同时使用 AS 和 OAS 方法来观察失真，佳能的混合对准系统可以进一步提高检测时间和更精确的测量；为了解决之前曝光过程中产生的模式失真，佳能的高精度速度平台对扫描速度和方向进行了微调，在曝光过程中修正光刻板上的掩模图形； 利用非线性失真校正技术结合扫描校正机制，可以处理衬底上各种形状的变形，并更准确地将其与掩模上的图案对齐。 三、国产光刻机与国外技术差距较大，但部分领域已实现突破 虽然，中国也有自己的国产光刻机厂商——上海微电子装备股份有限公司（SMEE），但是其在技术上与国外还存在较大差距。 上海微电子成立于2002年，主要从事半导体装备、泛半导体装备以及高端智能装备的设计制造销售，其中光刻设备是公司的主营业务。 目前公司光刻机可以应用于集成电路产业链中晶圆制造、封装测试，以及平板显示、高亮度 LED 等领域。目前上海微电子直接持有各类专利及专利申请超过2400项。 据上海微电子官网介绍，其主要生产 SSX600 和 SSX500 两个系列的光刻机。 |
